射出型光學部件表面ＨＣ技術

射出光學部件具有光學路徑的設計，外型及表面有不同的形狀，壓克力的材質也屬於其中一種最常使用的射出材料，為了後續的ＡＲ抗反射鍍膜或是其他功能性鍍膜作業，壓克力表面必須有一層ＨＣ作為基底，增加後續功能性膜層的附著性及可靠性。

但是常遇到的問題是客戶的射出光學部件外型及表面形狀日趨複雜及精細，對於表面膜層膜厚要求有趨於嚴格，在最薄的膜層厚度下具有最適合的功能效果以及不能破壞光學路徑的功能。

光立光學的浸鍍技術Dipping 以1um的厚度作為挑戰，完成射出光學部件的表面ＨＣ作業，可以完美做到功能與光學兼具的鍍膜效果。同時，面對客戶使用的工程塑膠日益廣泛的需求，除了單純的ＰＭＭＡ、ＰＣ材料之外，也添加了其他複合式塑膠材料，傳統的ＨＣ工法及結構無法有效成膜或者是附著性不佳等問題，長久以來一直是產業界困擾的問題之一。光立光學因應這個問題開發出新的工法及結構，使得附著性可以通過 3M#600的附著測試，並且成功讓後續的ＡＲ或是高反射膜層可以進行鍍膜，在複合塑膠材料的ＨＣ的問題對策上又向前邁進一步。